Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/324340| Title: | Спектры поглощения фоторезистов для обратной литографии |
| Authors: | Абрамов, С. А. Бринкевич, Д. И. Просолович, В. С. Колос, В. В. Зубова, О. А. Черный, В. В. |
| Keywords: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
| Issue Date: | 2024 |
| Citation: | Приборостроение – 2024 = Instrumentation Еngineering – 2024 : материалы 17-й Международной научно-технической конференции, 26–29 ноября 2024 года, Минск, Республика Беларусь / М-во образования Республики Беларусь [и др. ; редкол.: А. И. Свистун (пред.) и др.]. - Минск : БНТУ, 2024. - С. 108-110 |
| Abstract: | Методом ИК-Фурье-спектроскопии диффузного отражения исследованы пленки негативных фоторезистов AZ nLOF 2020 и AZ nLOF 2070 толщиной 5,9 мкм, нанесенные на поверхность пластин кремния методом центрифугирования. Наиболее интенсивными являются полосы валентных колебаний ароматического кольца ( ~1500 см–1 ), пульсационных колебаний углеродного скелета ароматического кольца (сдвоенный максимум ~1595 и 1610 см–1 ), широкая структурированная полоса с несколькими максимумами в диапазоне 1050–1270 см–1 и полоса, связанная с СН2-мостиком. Показано, что полоса колебаний CH3 групп при 2945 см–1 обусловлена растворителем. Различия в спектрах диффузного отражения фоторезистов AZ nLOF 2020 и AZ nLOF 2070 связаны с наличием в пленках остаточного растворителя. |
| Abstract (in another language): | Films of AZ nLOF 2020 and AZ nLOF 2070 negative photoresists with a thickness of 5.9 microns deposited on the surface of silicon wafers by centrifugation were studied by the method of diffuse reflection IR-Fourier spectroscopy. The most intense are the bands of valence vibrations of the aromatic ring (~1500 cm–1 ), pulsation vibrations of the carbon skeleton of the aromatic ring (double maximum ~1595 and 1610 cm–1 ), a wide structured band with several maxima in the range of 1050–1270 cm–1 and a band associated with the CH2 bridge. It is shown that the oscillation band of the CH3 groups at 2945 cm–1 is due to a solvent. Differences in the diffuse reflection spectra of AZ nLOF2020 and AZ nLOF2070 photoresists are associated with the presence of residual solvent in the films. |
| URI: | https://elib.bsu.by/handle/123456789/324340 |
| Sponsorship: | Работа выполнена в рамках задания 2.16 Государственной программы научных исследований «Материаловедение, новые материалы и технологии», подпрограмма «Наноструктурные материалы, нанотехнологии, нанотехника («Наноструктура»)». |
| Licence: | info:eu-repo/semantics/openAccess |
| Appears in Collections: | Кафедра физики полупроводников и наноэлектроники (статьи) |
Files in This Item:
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| Доклады конф. БНТУ 2024 108-110.pdf | 364,44 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.