Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/305109| Title: | Индентирование облученных электронами пленок диазохинон-новолачных фоторезистов на кремнии |
| Other Titles: | Indentation of electron-irrauded films of diazoquinone novolac photoresists on silicone |
| Authors: | Вабищевич, С. А. Вабищевич, Н. В. Бринкевич, Д. И. |
| Keywords: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика ЭБ БГУ::ТЕХНИЧЕСКИЕ И ПРИКЛАДНЫЕ НАУКИ. ОТРАСЛИ ЭКОНОМИКИ::Электроника. Радиотехника |
| Issue Date: | 24-Feb-2023 |
| Publisher: | Полоцкий государственный университет |
| Citation: | Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки. — 2023. — № 1. — C. 29—37. |
| Abstract: | Методом индентирования изучены прочностные свойства облученных электронами с энергией 5 МэВ флюенсом 3×10^16 см^-2 пленок диазохинон-новолачных фоторезистов ФП9120, SPR 700 и S1813 G2 SP15 на кремнии. Отпечатки микроиндентора в пленках диазахинон-новолачных фоторезистов имеют бочковидную форму, что свидетельствует о наличии растягивающих напряжений, формирующихся при сушке пленки. Вокруг отпечатков индентора наблюдалась картина разрушений с радиальными и боковыми трещинами в виде «бабочек». Установлено, что при длительном хранении и облучении пленок диазохинон-новолачных фоторезистов имеет место увеличение значений истинной микротвердости пленок, которое обусловлено сшиванием макромолекул новолака в объеме полимера. |
| Abstract (in another language): | The strength properties of FP9120, SPR 700 and S1813 G2 SP15 diazoquinone novolac photoresist films on silicon irradiated by 5 MeV electrons with a fluence of 3×10^16 cm^-2 were studied by indentation. Misprints of the microindenter in films of diazaquinone novolac photoresist are barrel-shaped, which indicates the presence of tensile stresses that form during film drying. A destruction zone with radial and lateral cracks was observed around the indenter prints, forming a pattern in the form of "butterflies". It has been established that during long-term storage and irradiation of films of diazoquinone novolac photoresists, an increase in the values of the true microhardness of the films takes place, which is due to the cross-linking of novolac macromolecules in the bulk of the polymer. |
| URI: | https://elib.bsu.by/handle/123456789/305109 |
| DOI: | 10.52928/2070-1624-2023-40-1-29-37 |
| Licence: | info:eu-repo/semantics/openAccess |
| Appears in Collections: | Кафедра физики полупроводников и наноэлектроники (статьи) |
Files in This Item:
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| ПГУ_4 индентФР облуч эл.pdf | 790,8 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.