Logo BSU

Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.bsu.by/handle/123456789/236531
Title: Природа стабильных парамагнитных центров в имплантированных ионами Р+ и В+ пленках позитивного фоторезиста ФП9120
Authors: Бринкевич, Д. И.
Лапчук, Н. М.
Оджаев, В. Б.
Олешкевич, А. Н.
Просолович, В. С.
Янковский, Ю. Н.
Черный, В. В.
Keywords: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Issue Date: 2019
Publisher: Минск : БНТУ
Citation: Приборостроение-2019 : материалы 12-й Международной научно-технической конференции, 13—15 ноября 2019 года, Минск, Республика Беларусь / редкол.: О. К. Гусев (председатель) [и др.]. — Минск : БНТУ, 2019. — С. 196—198.
Abstract: Целью настоящей работы являлось исследование радиационно-индуцированных процессов в пленках диазохинон-новолачного фоторезиста ФП9120 при имплантации ионов бора и фосфора, а также облучении γ-квантами.
URI: http://elib.bsu.by/handle/123456789/236531
ISBN: 978-985-583-476-3
Appears in Collections:Кафедра физики полупроводников и наноэлектроники

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
P.196-198.pdf1,17 MBAdobe PDFView/Open


PlumX

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.