Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/49949
Title: | Синтез нанокластеров InAs в кремнии методом высокодозной ионной имплантации с последующей термообработкой |
Authors: | Комаров, Ф. Ф. Власукова, Л. А. Мильчанин, О. В. Гребень, М. В. Мудрый, А. В. Жук, Ю. Жуковски, П. Карват, Ч. |
Keywords: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
Issue Date: | 2010 |
Publisher: | Издательский центр БГУ |
Citation: | Материалы и структуры современной электроники: сб. науч. тр. IV Междунар. науч. конф., Минск, 23–24 окт. 2010 г. / редкол.: В.Б. Оджаев (отв. ред.) [и др.].— Мн.: БГУ, 2010. С. 189-192. |
Abstract: | В данной работе были исследованы глубинные распределения концентрации внедренных атомов In и As в условиях высокодозной ионной имплантации при двух температурах кристаллов кремния и высокотемпературной постимплантационной обработки. Был проведен анализ диффузионного перераспределения имплантированных примесей, а также влияния температуры имплантации и термообработки на размеры нанокластеров InAs. Приведены результаты исследования оптических свойств образцов методом низкотемпературной люминесценции. |
URI: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/49949 |
ISBN: | 978-985-476-885-4 |
Appears in Collections: | 2010. Материалы и структуры современной электроники |
Files in This Item:
File | Description | Size | Format | |
---|---|---|---|---|
Ф.Ф. Комаров, Л.А. Власукова, О.В. Мильчанин, М.В. Гребень, А.В. Мудрый, Ю. Жук, П. Жуковски, Ч. Карват.pdf | 483,49 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.