Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/49949
Заглавие документа: Синтез нанокластеров InAs в кремнии методом высокодозной ионной имплантации с последующей термообработкой
Авторы: Комаров, Ф. Ф.
Власукова, Л. А.
Мильчанин, О. В.
Гребень, М. В.
Мудрый, А. В.
Жук, Ю.
Жуковски, П.
Карват, Ч.
Тема: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Дата публикации: 2010
Издатель: Издательский центр БГУ
Библиографическое описание источника: Материалы и структуры современной электроники: сб. науч. тр. IV Междунар. науч. конф., Минск, 23–24 окт. 2010 г. / редкол.: В.Б. Оджаев (отв. ред.) [и др.].— Мн.: БГУ, 2010. С. 189-192.
Аннотация: В данной работе были исследованы глубинные распределения концентрации внедренных атомов In и As в условиях высокодозной ионной имплантации при двух температурах кристаллов кремния и высокотемпературной постимплантационной обработки. Был проведен анализ диффузионного перераспределения имплантированных примесей, а также влияния температуры имплантации и термообработки на размеры нанокластеров InAs. Приведены результаты исследования оптических свойств образцов методом низкотемпературной люминесценции.
URI документа: http://elib.bsu.by/handle/123456789/49949
ISBN: 978-985-476-885-4
Располагается в коллекциях:2010. Материалы и структуры современной электроники

Показать полное описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.