Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/49733
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorВасильев, Ю. Б.-
dc.contributor.authorПлебанович, В. И.-
dc.contributor.authorОджаев, В. Б.-
dc.contributor.authorСадовский, П. К.-
dc.contributor.authorЧелядинский, А. Р.-
dc.contributor.authorГайдук, П. И.-
dc.contributor.authorПрокопьев, С. Л.-
dc.date.accessioned2013-10-22T16:42:38Z-
dc.date.available2013-10-22T16:42:38Z-
dc.date.issued2010-
dc.identifier.citationМатериалы и структуры современной электроники: сб. науч. тр. IV Междунар. науч. конф., Минск, 23–24 окт. 2010 г. / редкол.: В.Б. Оджаев (отв. ред.) [и др.].— Мн.: БГУ, 2010. С. 156-160.ru
dc.identifier.isbn978-985-476-885-4-
dc.identifier.urihttp://elib.bsu.by/handle/123456789/49733-
dc.description.abstractВ данной работе исследовалось влияния режимов промежуточных быстрых термических отжигов (БТО) на образование остаточных нарушений в легированных слоях кремния, созданных пошаговой имплантацией ионов бора.ru
dc.language.isoruru
dc.publisherИздательский центр БГУru
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физикаru
dc.titleПошаговый метод имплантации кремния ионами бора при быстром термическом отжигеru
dc.typeconference paperru
Располагается в коллекциях:2010. Материалы и структуры современной электроники

Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.