Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/48879
Заглавие документа: СТРУКТУРНЫЕ И ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА СЛОЕВ ПОЛИ-Ge ПОСЛЕ ИМПЛАНТАЦИИ И ПОСЛЕДУЮЩЕГО ОТЖИГА
Авторы: Зайков, В. А.
Гайдук, П. И.
Новиков, А. Г.
Прокопьев, С. Л.
Наливайко, О. Ю.
Пшеничный, Е. Н.
Тема: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Дата публикации: 2010
Издатель: Издательский центр БГУ
Библиографическое описание источника: Материалы и структуры современной электроники: сб. науч. тр. IV Междунар. науч. конф., Минск, 23–24 окт. 2010 г. / редкол.: В.Б. Оджаев (отв. ред.) [и др.].— Мн.: БГУ, 2010. С. 96-99.
Аннотация: В настоящей работе представлены результаты исследования структурных свойств слоев поли-Ge, выращенных методом химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ). Исследованы электрофизические свойства Ge/Si структур после легирования ионами бора и фосфора и последующего отжига.
URI документа: http://elib.bsu.by/handle/123456789/48879
ISBN: 978-985-476-885-4
Располагается в коллекциях:2010. Материалы и структуры современной электроники

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
В.А. Зайков, П.И. Гайдук, А.Г. Новиков, С.Л. Прокопьев, О.Ю. Наливайко, Е.Н. Пшеничный.pdf415,67 kBAdobe PDFОткрыть
Показать полное описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.