Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/257344
Title: | Свойства полупроводниковых структур на основе оксида индия-галлия-цинка, полученных из раствора |
Other Titles: | The properties of semiconductor structures indium-gallium-zinc oxide obtained from solution / B. A. Kazarkin, A. A. Stepanov, A. G. Smirnov |
Authors: | Казаркин, Б. А. Степанов, А. А. Смирнов, А. Г. |
Keywords: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
Issue Date: | 2020 |
Publisher: | Минск : БГУ |
Citation: | Материалы и структуры современной электроники : материалы IX Междунар. науч. конф., Минск, 14–16 окт. 2020 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. Б. Оджаев (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2020. – С. 352-356. |
Abstract: | Представлены результаты исследования влияния атмосферы при двухстадийном отжиге тонкопленочных транзисторных структур на основе полупроводникового соединений оксида индия-галлия-цинка, полученных из раствора. Показано, что отжиг в атмосфере азота позволяет увеличить токи сток-затворной характеристики транзистора более чем в 6 раз |
Abstract (in another language): | The influence of the atmosphere during two-stage annealing of thin-film transistor structures based on a semiconductor compound based on indium-gallium-zinc oxide obtained from a solution has been studied. It is shown that the use of nitrogen as the atmosphere in the first and second stages of annealing increases the currents of the drain-gate characteristic of the transistor by more than 6 times |
Description: | Нанотехнологии, наноструктуры, квантовые явления. Наноэлектроника. Приборы на квантовых эффектах |
URI: | https://elib.bsu.by/handle/123456789/257344 |
ISBN: | 978-985-881-073-3 |
Appears in Collections: | 2020. Материалы и структуры современной электроники |
Files in This Item:
File | Description | Size | Format | |
---|---|---|---|---|
352-356.pdf | 897,42 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.