Logo BSU

Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.bsu.by/handle/123456789/257294
Title: Сегрегация углерода и преципитация SiC в упруго-деформированых слоях Si/SiGe(SiSn)/Si
Other Titles: Carbon segregation and SiC precipitation in strained layers of Si/SiGe(SiSn)/Si / P. I. Gaiduk
Authors: Гайдук, П. И.
Keywords: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Issue Date: 2020
Publisher: Минск : БГУ
Citation: Материалы и структуры современной электроники : материалы IX Междунар. науч. конф., Минск, 14–16 окт. 2020 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. Б. Оджаев (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2020. – С. 166-170.
Abstract: Горячая имплантация ионов углерода в многослойные структуры с упруго-деформированными слоями сплавов SiGe и SiSn, встроенными в Si подложку, приводит к сегрегации примеси с последующим формированием углеродных фаз и карбида кремния. Обнаружено аномальное перераспределение имплантированной примеси вблизи напряженных слоев SiGe(SiSn)/Si, что сопровождается накоплением атомов углерода на стороне Si и истощением на стороне SiGe(SiSn)-слоев. Электронно-микроскопические исследования показали распределенные вдоль границ раздела Si/SiGe пластинчатые дефекты, которые связаны с углеродными фазами, а также фазами карбида кремния
Abstract (in another language): Hot ion implantation of carbon into strained multilayer structures of SiGe and SiSn alloys embedded in a Si substrate results in impurity segregation followed by SiC formation. An anomalous redistribution of the implanted impurity nearby strained SiGe(SiSn)/Si layers is accompanied by the accumulation of carbon atoms on the Si side and depletion on the SiGe (SiSn) side of layers. Dark-field images revieled plate-like defects and thin lamellas distributed along the Si/SiGe interface, which are associated with carbon-related phases and SiC
Description: Дефектно-примесная инженерия. Радиационные эффекты в полупроводниках
URI: https://elib.bsu.by/handle/123456789/257294
ISBN: 978-985-881-073-3
Sponsorship: Исследования выполнены в рамках проекта 3.2.04 ГПНИ «Фотоника, опто- и микроэлектроника», номер госрегистрации 20190644.
Appears in Collections:2020. Материалы и структуры современной электроники

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
166-170.pdf1,24 MBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar



Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.