Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/7660
Title: | Основы оптических технологий в микроэлектронике: учебные материалы / В. М. Стецик; БГУ, Факультет радиофизики и компьютерных технологий |
Authors: | Стецик, В. М. |
Keywords: | ЭБ БГУ::ТЕХНИЧЕСКИЕ И ПРИКЛАДНЫЕ НАУКИ. ОТРАСЛИ ЭКОНОМИКИ::Электроника. Радиотехника |
Issue Date: | 2-May-2012 |
Abstract: | Процесс развития фотолитографии представляет собой последователь- ный переход к обеспечению производства ИС с топологическими элементами все меньших размеров. На первом этапе (1960-е годы) минимальные элементы топологии имели размеры более 10 мкм. Для формирования структур с такими размерами было создано первое поколение соответствующего оптико- механического оборудования: редукционные размеры, фотоповторители, кон- тактные установки совмещения, разрешение и точность которых составляла 3…5 мкм. Второй этап (1970-е годы) характеризуется минимальным размером элементов до 3 мкм, ростом степени интеграции, появлением больших ИС (БИС). |
URI: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/7660 |
Appears in Collections: | Кафедра квантовой радиофизики и оптоэлектроники (пособия) |
Files in This Item:
File | Description | Size | Format | |
---|---|---|---|---|
Основы опт технол в микроэлектронике.pdf | 2,74 MB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.