Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/7660
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorСтецик, В. М.-
dc.date.accessioned2012-05-02T11:16:17Z-
dc.date.available2012-05-02T11:16:17Z-
dc.date.issued2012-05-02-
dc.identifier.urihttp://elib.bsu.by/handle/123456789/7660-
dc.description.abstractПроцесс развития фотолитографии представляет собой последователь- ный переход к обеспечению производства ИС с топологическими элементами все меньших размеров. На первом этапе (1960-е годы) минимальные элементы топологии имели размеры более 10 мкм. Для формирования структур с такими размерами было создано первое поколение соответствующего оптико- механического оборудования: редукционные размеры, фотоповторители, кон- тактные установки совмещения, разрешение и точность которых составляла 3…5 мкм. Второй этап (1970-е годы) характеризуется минимальным размером элементов до 3 мкм, ростом степени интеграции, появлением больших ИС (БИС).ru
dc.language.isoruru
dc.subjectЭБ БГУ::ТЕХНИЧЕСКИЕ И ПРИКЛАДНЫЕ НАУКИ. ОТРАСЛИ ЭКОНОМИКИ::Электроника. Радиотехникаru
dc.titleОсновы оптических технологий в микроэлектронике: учебные материалы / В. М. Стецик; БГУ, Факультет радиофизики и компьютерных технологийru
dc.typelearning object-
Располагается в коллекциях:Кафедра квантовой радиофизики и оптоэлектроники (пособия)

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
Основы опт технол в микроэлектронике.pdf2,74 MBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.