Logo BSU

Please use this identifier to cite or link to this item: http://elib.bsu.by/handle/123456789/7660
Title: Основы оптических технологий в микроэлектронике: учебные материалы / В. М. Стецик; БГУ, Факультет радиофизики и компьютерных технологий
Authors: Стецик, В. М.
Keywords: ЭБ БГУ::ТЕХНИЧЕСКИЕ И ПРИКЛАДНЫЕ НАУКИ. ОТРАСЛИ ЭКОНОМИКИ::Электроника. Радиотехника
Issue Date: 2-May-2012
Abstract: Процесс развития фотолитографии представляет собой последователь- ный переход к обеспечению производства ИС с топологическими элементами все меньших размеров. На первом этапе (1960-е годы) минимальные элементы топологии имели размеры более 10 мкм. Для формирования структур с такими размерами было создано первое поколение соответствующего оптико- механического оборудования: редукционные размеры, фотоповторители, кон- тактные установки совмещения, разрешение и точность которых составляла 3…5 мкм. Второй этап (1970-е годы) характеризуется минимальным размером элементов до 3 мкм, ростом степени интеграции, появлением больших ИС (БИС).
URI: http://elib.bsu.by/handle/123456789/7660
Appears in Collections:3.15. Основы оптических технологий для микроэлектроники
2.13. Основы оптических технологий для микроэлектроники
Учебно-методические комплексы факультета радиофизики и компьютерных технологий

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Основы опт технол в микроэлектронике.pdf2,74 MBAdobe PDFView/Open


PlumX

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.