Физические основы ионно-фотонно-плазменной технологии : конспект лекций / Н. Н. Никифоренко; БГУ, Факультет радиофизики и компьютерных технологий

Abstract

Целью изучения дисциплины является ознакомление студентов с основными физическими процессами, происходящими при взаимодействии интенсивных потоков ионов, атомов, фотонов и плазмы с поверхностью твердых тел. Рассматриваются также наиболее перспективные, наукоемкие вакуумно-плазменные технологии нанесения и травления тонкопленочных покрытий различного назначения, включая методы оперативного контроля технологических процессов.