Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/337718
Заглавие документа: Монохроматическая эллипсометрия оксидных слоев на кремниевых пластинах, сформированных быстрым термическим отжигом
Другое заглавие: Monochromatic ellipsometry of oxide layers on silicon wafers formed by rapid thermal annealing / D. V. Ponkratov, V. A. Pilipenko, N. I. Staskov, A. N. Pyatlitsky, S. A. Melnikov, A. B. Sotsky, L. I. Sotskaya, A. V. Shilov, D. V. Shestovsky
Авторы: Понкратов, Д. В.
Пилипенко, В. А.
Стаськов, Н. И.
Петлицкий, А. Н.
Мельников, С. А.
Сотский, А. Б.
Сотская, Л. И.
Шилов, А. В.
Шестовский, Д. В.
Тема: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
ЭБ БГУ::ТЕХНИЧЕСКИЕ И ПРИКЛАДНЫЕ НАУКИ. ОТРАСЛИ ЭКОНОМИКИ::Электроника. Радиотехника
Дата публикации: 2025
Издатель: Минск : БГУ
Библиографическое описание источника: Квантовая электроника : материалы XV Междунар. науч.-техн. конф., Минск, 18–20 нояб. 2025 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: А. А. Афоненко (гл. ред.), М. М. Кугейко, А. В. Баркова. – Минск : БГУ, 2025. – С. 301-305.
Аннотация: В результате термического отжига на поверхности полупроводниковой пластины образуется неоднородный слой, состоящий из ультратонкого контактного слоя, оксидного слоя и поверхностного слоя. Предложена функция, которая характеризует распределение диэлектрической проницаемости по толщине слоя и обеспечивающая устойчивое решение обратной эллипсометрической задачи при оптимальных углах падения света на неоднородный слой
Аннотация (на другом языке): As a result of thermal annealing, a heterogeneous layer is formed on the surface of the semiconductor wafer, consisting of an ultrathin contact layer, an oxide layer, and a surface layer. A function has been proposed that characterizes the distribution of dielectric permittivity across the thickness of the layer, ensuring a stable solution to the inverse ellipsometric problem at optimal angles of incidence of light on the heterogeneous layer
URI документа: https://elib.bsu.by/handle/123456789/337718
ISBN: 978-985-881-861-6
Финансовая поддержка: Работа выполнена в рамках Государственной программы научных исследований Республики Беларусь «1.15 Фотоника и электроника для инноваций».
Лицензия: info:eu-repo/semantics/openAccess
Располагается в коллекциях:2025. Квантовая электроника

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
301-305.pdf1,68 MBAdobe PDFОткрыть
Показать полное описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.