Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/329539
Заглавие документа: Расчёт конструктивно-технологических параметров высоковольтного n–p–n-транзистора с помощью моделирования
Другое заглавие: Computating constructive-technological parameters of the high-voltage n–p–n-transistor using simulation / N. L. Lagunovich
Авторы: Лагунович, Н. Л.
Тема: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Дата публикации: 2025
Издатель: Минск : БГУ
Библиографическое описание источника: Материалы и структуры современной электроники : материалы XI Междунар. науч. конф., Минск, 16–18 окт. 2024 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. Б. Оджаев (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2025. – С. 96-101.
Аннотация: При разработке и освоении новых изделий электронной техники часто бывает необходимо провести моделирование разрабатываемых изделий с целью предварительной оценки их конструктивно-технологических и электрофизических характеристик и параметров ещё до этапа изготовления их экспериментальных образцов. В связи с чем, важность и необходимость этапа моделирования полупроводниковых структур на сегодняшний день значительно возросли. В данной работе представлены результаты технологического моделирования высоковольтного n-p-n–транзистора средней мощности с пробивным напряжением коллектор-эмиттер более 80 В и максимальной рассеиваемой мощностью до 0,63 Вт, изготавливаемого по разработанному технологическому маршруту. В результате проектирования была получена структура прибора и определены такие его параметры, как глубины залегания p-n–переходов Xj, Значения поверхностных сопротивлений областей p- и n-типов R S, толщины защитных окислов d с достаточно приемлемой погрешностью 3,81–23,10 %
Аннотация (на другом языке): It is often necessary to carry out simulation of the products electronic being developed in order to preliminary assess their constructive-technological and electrical characteristics and parameters in the process of developing and mastering new electronic products even before the stage of manufacturing their experimental samples. In this connection, the importance and necessity of the modeling semiconductor structures stage has increased significantly today. Results of process simulation of the high-voltage medium-power n-p-n–transistor with a collector-emitter breakdown voltage of over 80 V and a maximum power dissipation of up to 0.63 W manufactured according to the developed process flow are presents in this paper. The structure of the device was obtained and its parameters were determined, such as its p-n–junctions depths Xj, surface resistances of the p- and n-type regions values RS, protective oxides thickness d as a result of the modeling with a quite acceptable error of 3.81–23.10 %
Доп. сведения: Свойства, диагностика и применение полупроводниковых материалов и структур на их основе
URI документа: https://elib.bsu.by/handle/123456789/329539
ISBN: 978-985-881-739-8
Лицензия: info:eu-repo/semantics/openAccess
Располагается в коллекциях:2024. Материалы и структуры современной электроники

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
96-101.pdf426,06 kBAdobe PDFОткрыть
Показать полное описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.