Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/329539
Title: | Расчёт конструктивно-технологических параметров высоковольтного n–p–n-транзистора с помощью моделирования |
Other Titles: | Computating constructive-technological parameters of the high-voltage n–p–n-transistor using simulation / N. L. Lagunovich |
Authors: | Лагунович, Н. Л. |
Keywords: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
Issue Date: | 2025 |
Publisher: | Минск : БГУ |
Citation: | Материалы и структуры современной электроники : материалы XI Междунар. науч. конф., Минск, 16–18 окт. 2024 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. Б. Оджаев (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2025. – С. 96-101. |
Abstract: | При разработке и освоении новых изделий электронной техники часто бывает необходимо провести моделирование разрабатываемых изделий с целью предварительной оценки их конструктивно-технологических и электрофизических характеристик и параметров ещё до этапа изготовления их экспериментальных образцов. В связи с чем, важность и необходимость этапа моделирования полупроводниковых структур на сегодняшний день значительно возросли. В данной работе представлены результаты технологического моделирования высоковольтного n-p-n–транзистора средней мощности с пробивным напряжением коллектор-эмиттер более 80 В и максимальной рассеиваемой мощностью до 0,63 Вт, изготавливаемого по разработанному технологическому маршруту. В результате проектирования была получена структура прибора и определены такие его параметры, как глубины залегания p-n–переходов Xj, Значения поверхностных сопротивлений областей p- и n-типов R S, толщины защитных окислов d с достаточно приемлемой погрешностью 3,81–23,10 % |
Abstract (in another language): | It is often necessary to carry out simulation of the products electronic being developed in order to preliminary assess their constructive-technological and electrical characteristics and parameters in the process of developing and mastering new electronic products even before the stage of manufacturing their experimental samples. In this connection, the importance and necessity of the modeling semiconductor structures stage has increased significantly today. Results of process simulation of the high-voltage medium-power n-p-n–transistor with a collector-emitter breakdown voltage of over 80 V and a maximum power dissipation of up to 0.63 W manufactured according to the developed process flow are presents in this paper. The structure of the device was obtained and its parameters were determined, such as its p-n–junctions depths Xj, surface resistances of the p- and n-type regions values RS, protective oxides thickness d as a result of the modeling with a quite acceptable error of 3.81–23.10 % |
Description: | Свойства, диагностика и применение полупроводниковых материалов и структур на их основе |
URI: | https://elib.bsu.by/handle/123456789/329539 |
ISBN: | 978-985-881-739-8 |
Licence: | info:eu-repo/semantics/openAccess |
Appears in Collections: | 2024. Материалы и структуры современной электроники |
Files in This Item:
File | Description | Size | Format | |
---|---|---|---|---|
96-101.pdf | 426,06 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.