Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/329517
Заглавие документа: Интерпозеры на основе алюмооксидных пластин со встроенной системой алюминиевой металлизации
Другое заглавие: Interposers based on alumina plates with built-in aluminum metallization system / D. L. Shymanovich
Авторы: Шиманович, Д. Л.
Тема: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Дата публикации: 2025
Издатель: Минск : БГУ
Библиографическое описание источника: Материалы и структуры современной электроники : материалы XI Междунар. науч. конф., Минск, 16–18 окт. 2024 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. Б. Оджаев (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2025. – С. 582-587.
Аннотация: Изучены и оптимизированы технологические приемы и режимы формирования интерпозеров на основе однослойных и двухслойных мембранных алюмооксидных пластин со встроенной внутри диэлектрического объема системой алюминиевых пассивных элементов, коммутационных межсоединений и сквозных переходных элементов, полученных локальным односторонним и двухсторонним сквозным анодированием с использованием дополнительного биполярного анодирования. Изготовлены однослойные и двухслойные интерпозеры размером соответственно 1,2×1,2 см и 1,0×1,0 см. Показано, что конструктивно-технологически толщина Al2O3-интерпозеров может варьироваться от ~30 до 100 мкм. Продемонстрировано, что толщина имплантированных Al-проводников может составлять от ~5 до ~100 мкм, причем возможна различная глубина их залегания в объеме мембранных Al2O3-пластин
Аннотация (на другом языке): The technological methods and regimes of interposers formation based on single-layer and double-layer membrane alumina plates with a system of aluminum passive elements, conductive interconnections and through transition elements built inside the dielectric body, obtained by local one-sided and two-sided through thickness anodizing using additional bipolar anodizing, were studied and optimized. Single-layer and double-layer interposers with dimensions of 1,2×1,2 cm and 1,0×1,0 cm, respectively, were fabricated. It was shown that the thickness of Al2O3 interposers can be changed from ~ 30 to 100 µm in terms of design and technology. It was demonstrated that the thickness of implanted Al conductors can be from ~5 μm to ~100 μm, and different depths of their location inside Al2O3 membrane plates are possible
Доп. сведения: Нанотехнологии, наноструктуры, квантовые явления. Наноэлектроника. Приборы на квантовых эффектах
URI документа: https://elib.bsu.by/handle/123456789/329517
ISBN: 978-985-881-739-8
Лицензия: info:eu-repo/semantics/openAccess
Располагается в коллекциях:2024. Материалы и структуры современной электроники

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
582-587.pdf412,2 kBAdobe PDFОткрыть
Показать полное описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.