Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/305482| Заглавие документа: | Повышение селективности плазмохимического травления SiO2/Si при использовании смеси CHF3/CF4 |
| Другое заглавие: | Selectivity improvement of plasma-chemical etching of silicon oxide layers in a CHF 3 /CF 4 mixture / O. Y. Nalivaiko, O. V. Karas, K. A. Darakhovich, D. V. Zhigulin |
| Авторы: | Наливайко, О. Ю. Карась, О. В. Дорохович, К. А. Жигулин, Д. В. |
| Тема: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
| Дата публикации: | 2023 |
| Издатель: | Минск : БГУ |
| Библиографическое описание источника: | Квантовая электроника : материалы XIV Междунар. науч.-техн. конф., Минск, 21-23 нояб. 2023 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: М. М. Кугейко (гл. ред.), А. А. Афоненко, А. В. Баркова. – Минск : БГУ, 2023. – С. 428-431. |
| Аннотация: | Проведено исследование скорости и селективности плазмохимического травления слоев оксида кремния в смеси CHF3/CF4. Установлено, что при увеличении соотношения потоков CHF3/CF4 с 0,75 до 3,33 селективность травления SiO2/ПКК монотонно возрастает с 9,34 до 25,5. Это позволяет обеспечить одновременное травление контактных окон с различной глубиной с аспектным соотношением до 1,5 и с наклоном боковых стенок 82–87° |
| Аннотация (на другом языке): | The etch rate and selectivity of plasma-chemical etching of silicon oxide layers in a CHF3/CF4 mixture was studied. It was found that with an increase in the CHF3/CF4 flow ratio from 0.75 to 3.33, the SiO2/Poly-Si etching selectivity monotonically increases from 9.34 to 25.5. This allows for simultaneous etching of contact holes with different depths with an aspect ratio of up to 1.5 and an inclination of the side walls of 82–87° |
| URI документа: | https://elib.bsu.by/handle/123456789/305482 |
| ISBN: | 978-985-881-530-1 |
| Лицензия: | info:eu-repo/semantics/openAccess |
| Располагается в коллекциях: | 2023. Квантовая электроника |
Полный текст документа:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| 428-431.pdf | 1,65 MB | Adobe PDF | Открыть |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.