Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/305446
Заглавие документа: Моделирование влияния затворного напряжения на плотность паразитного туннельного тока в элементах флеш-памяти
Другое заглавие: Simulation of gate bias effect on parasitic tunnel current in flash-memory Cells / O. G. Zhevnyak, A. V. Borzdov, V. M. Borzdov
Авторы: Жевняк, О. Г.
Борздов, А. В.
Борздов, В. М.
Тема: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Дата публикации: 2023
Издатель: Минск : БГУ
Библиографическое описание источника: Квантовая электроника : материалы XIV Междунар. науч.-техн. конф., Минск, 21-23 нояб. 2023 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: М. М. Кугейко (гл. ред.), А. А. Афоненко, А. В. Баркова. – Минск : БГУ, 2023. – С. 283-286.
Аннотация: С помощью кинетического моделирования электронного переноса в элементах флеш-памяти методом Монте-Карло исследовано влияние затворного напряжения на величину плотности паразитного туннельного тока на плавающий затвор в этих структурах. Показано, что в рассматриваемых условиях с увеличением напряжения на затворе меняется характер зависимости величины данного тока вдоль проводящего канала элемента флеш-памяти
Аннотация (на другом языке): By using Monte Carlo simulation of electron transport in flash-memory cells the gate bias effect on density of parasitic tunnel current in such structures is studied. It is shown that under studied conditions the behavior of parasitic tunnel current density dependencies along the channel is changed with increasing gate bias
URI документа: https://elib.bsu.by/handle/123456789/305446
ISBN: 978-985-881-530-1
Лицензия: info:eu-repo/semantics/openAccess
Располагается в коллекциях:2023. Квантовая электроника

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
283-286.pdf1,56 MBAdobe PDFОткрыть
Показать полное описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.