Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/304277| Title: | Равномерность осаждаемых ультратонких покрытий, формируемых методом магнетронного распыления |
| Other Titles: | Uniformity of deposited ultrathin coatings formed by magnetron sputtering / V.V. Shakialeuski, K.T. Logunov, D.A. Kotov |
| Authors: | Шекелевский, В. В. Логунов, К. Т. Котов, Д. А. |
| Keywords: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
| Issue Date: | 2023 |
| Publisher: | Минск : БГУ |
| Citation: | Взаимодействие излучений с твердым телом : материалы 15-й Междунар. конф., Минск, Беларусь, 26-29 сент. 2023 г. / Белорус, гос. ун-т ; редкол.: В. В. Углов (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2023. – С. 556-559. |
| Abstract: | В работе рассмотрено применение численных методов, на примере метода Монте-Карло, для оценки равномерности формируемых ультратонких покрытий методом магнетронного распыления. Описан подход к заданию начальных условий для потока распыляемых частиц. Показаны зависимости формируемого профиля покрытия при разном расстоянии мишень-подложка. Проведена верификация расчетных и экспериментальных данных, которая показывает хорошее соответствие расчета с экспериментом, что говорит о применимости данного подхода к определению профиля формируемых покрытий в более сложных случаях |
| Abstract (in another language): | The paper considers the application of numerical methods, using the Monte Carlo method as an example, to evaluate the uniformity of ultrathin coatings formed by magnetron sputtering. An approach to specifying the initial conditions for the flow of sputtered particles is described. Dependences of the formed coating profile are shown for different target-substrate distances. The nonuniformity of the films decreases with an increase in the distance between the target and the substrate, but at the expense of a decrease in the deposition rate. Experimental deposition of vanadium on a glass substrate was carried out and verification of the calculated and experimental data was carried out, which shows a good agreement between the calculation and experiment, which indicates the applicability of this approach to determining the uniformity profile of the formed coatings in more complex cases. An analysis of the calculated data shows that it is possible to achieve a film nonuniformity of less than 5% with a fixed and axisymmetrically located substrate with respect to the magnetron and a target-substrate distance of 250 mm only in a narrow section with a radius of about 25 mm, but it is impossible for large substrate sizes, which is confirmed by experimental data. In this case, it is necessary to use the rotation of the substrate and its shift relative to the magnetron axis, as well as the tilt |
| Description: | Секция 5. Методы, оборудование, плазменные и радиационные технологии = Section 5. Methods, equipment, plasma and radiation technologies |
| URI: | https://elib.bsu.by/handle/123456789/304277 |
| ISSN: | 2663-9939 (Print) 2706-9060 (Online) |
| Licence: | info:eu-repo/semantics/openAccess |
| Appears in Collections: | 2023. Взаимодействие излучений с твердым телом |
Files in This Item:
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| 556-559.pdf | 467,08 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.