Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/304277| Заглавие документа: | Равномерность осаждаемых ультратонких покрытий, формируемых методом магнетронного распыления |
| Другое заглавие: | Uniformity of deposited ultrathin coatings formed by magnetron sputtering / V.V. Shakialeuski, K.T. Logunov, D.A. Kotov |
| Авторы: | Шекелевский, В. В. Логунов, К. Т. Котов, Д. А. |
| Тема: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
| Дата публикации: | 2023 |
| Издатель: | Минск : БГУ |
| Библиографическое описание источника: | Взаимодействие излучений с твердым телом : материалы 15-й Междунар. конф., Минск, Беларусь, 26-29 сент. 2023 г. / Белорус, гос. ун-т ; редкол.: В. В. Углов (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2023. – С. 556-559. |
| Аннотация: | В работе рассмотрено применение численных методов, на примере метода Монте-Карло, для оценки равномерности формируемых ультратонких покрытий методом магнетронного распыления. Описан подход к заданию начальных условий для потока распыляемых частиц. Показаны зависимости формируемого профиля покрытия при разном расстоянии мишень-подложка. Проведена верификация расчетных и экспериментальных данных, которая показывает хорошее соответствие расчета с экспериментом, что говорит о применимости данного подхода к определению профиля формируемых покрытий в более сложных случаях |
| Аннотация (на другом языке): | The paper considers the application of numerical methods, using the Monte Carlo method as an example, to evaluate the uniformity of ultrathin coatings formed by magnetron sputtering. An approach to specifying the initial conditions for the flow of sputtered particles is described. Dependences of the formed coating profile are shown for different target-substrate distances. The nonuniformity of the films decreases with an increase in the distance between the target and the substrate, but at the expense of a decrease in the deposition rate. Experimental deposition of vanadium on a glass substrate was carried out and verification of the calculated and experimental data was carried out, which shows a good agreement between the calculation and experiment, which indicates the applicability of this approach to determining the uniformity profile of the formed coatings in more complex cases. An analysis of the calculated data shows that it is possible to achieve a film nonuniformity of less than 5% with a fixed and axisymmetrically located substrate with respect to the magnetron and a target-substrate distance of 250 mm only in a narrow section with a radius of about 25 mm, but it is impossible for large substrate sizes, which is confirmed by experimental data. In this case, it is necessary to use the rotation of the substrate and its shift relative to the magnetron axis, as well as the tilt |
| Доп. сведения: | Секция 5. Методы, оборудование, плазменные и радиационные технологии = Section 5. Methods, equipment, plasma and radiation technologies |
| URI документа: | https://elib.bsu.by/handle/123456789/304277 |
| ISSN: | 2663-9939 (Print) 2706-9060 (Online) |
| Лицензия: | info:eu-repo/semantics/openAccess |
| Располагается в коллекциях: | 2023. Взаимодействие излучений с твердым телом |
Полный текст документа:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| 556-559.pdf | 467,08 kB | Adobe PDF | Открыть |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.