Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/272522
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorБахадырханов, М. К.-
dc.contributor.authorКенжаев, З. Т.-
dc.contributor.authorИсмайлов, Б. К.-
dc.contributor.authorОджаев, В. Б.-
dc.contributor.authorПросолович, В. С.-
dc.contributor.authorЯнковский, Ю. Н.-
dc.date.accessioned2021-12-03T13:32:08Z-
dc.date.available2021-12-03T13:32:08Z-
dc.date.issued2021-
dc.identifier.citationЖурнал Белорусского государственного университета. Физика = Journal of the Belarusian State University. Physics. – 2021. – № 3. – С. 32–39ru
dc.identifier.issn2520-2243-
dc.identifier.urihttps://elib.bsu.by/handle/123456789/272522-
dc.description.abstractИсследована возможность корректировки эксплуатационных характеристик промышленных фотоэлементов производства фирмы Suniva на основе монокристаллического кремния посредством дополнительного диффузионного легирования их примесью никеля в интервале температур 700–1200°С. Показано, что оптимальная температура диффузии никеля Тдиф = 800–850°С, в этом случае значение максимальной мощности Рmax возрастает на 20–28% по отношению к параметрам исходного промышленного фотоэлемента. При температурах диффузии Тдиф > 1000°С происходит резкое уменьшение Рmax, что связано с увеличением глубины залегания р– n-перехода вследствие разгонки атомов фосфора при проведении высокотемпературной диффузии никеля. Положительный эффект диффузионного легирования никелем на электрофизические свойства фотоэлементов является наибольшим в том случае, когда примесные кластеры никеля находятся в области р– n-перехода, т. е. при диффузионном легировании в лицевую сторону пластины. Действие электрически нейтральных кластеров никеля менее выражено при их расположении в области изотипного p– p+-перехода, т. е. при диффузионном легировании в обратную сторону пластины.ru
dc.language.isoruru
dc.publisherМинск : БГУru
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccessru
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физикаru
dc.titleПовышение эффективности промышленного кремниевого солнечного элемента легированием никелемru
dc.title.alternativeImproving the efficiency of an industrial silicon solar cell by doping with nickelru
dc.typearticleru
dc.rights.licenseCC BY 4.0ru
dc.identifier.DOI10.33581/2520-2243-2021-3-32-39-
dc.description.alternativeThe possibility of adjusting the operational parameters of industrial solar cells produced by the company Suniva based on monocrystalline silicon by means of additional diffusion doping with nickel in the temperature range 700–1200°C has been investigated. It is shown that the optimal temperature of nickel diffusion is Tdiff = 800–850°C. In this case the value of the maximum power Pmax increases by 20–28 % in relation to the parameters of the original industrial photocell. At diffusion temperatures Tdiff > 1000°C, a sharp decrease in Pmax occurs, which is associated with an increase in the depth of the p – n junction due to the distillation of phosphorus atoms during high-temperature diffusion of nickel. The positive effect of diffusion alloying with nickel on the electrophysical parameters of photocells is greatest in the case when the nickel impurity clusters are in the region of the p – n junction, i. e. with diffusion alloying to the front side of the plate. The action of electrically neutral nickel clusters is less pronounced when they are located in the region of the isotypic p–p+ transition; in case of diffusion alloying with nickel in the opposite side of the plate.ru
Располагается в коллекциях:Кафедра физики полупроводников и наноэлектроники (статьи)

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
J_BSU_Physics. 2021;3_32–39.pdf546,14 kBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.