Просмотр "2020. Материалы и структуры современной электроники" Авторы Телеш, Е. В.
Результаты 1 - 2 из 2
Предварительный просмотр | Дата выпуска | Заглавие | Автор(ы) |
---|---|---|---|
2020 | Исследование электрофизических параметров тонкопленочных структур HfO2/Si, полученных реактивным ионно-лучевым распылением | Зырянова, А. С.; Телеш, Е. В. | |
2020 | Формирование тонкопленочных структур SiOF / Si прямым осаждением из ионных пучков | Телеш, Е. В. |