Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/202690| Заглавие документа: | Влияние быстрой термической обработки исходных кремниевых пластин на процесс их пирогенного окисления |
| Другое заглавие: | Influence of the rapid thermal treatment of the initial silicon wafers on the process of their pyrogenic oxidation / V. M. Anishchik, V. A. Harushka, U. A. Pilipenka, V. V. Ponariadov, V. A. Saladukha |
| Авторы: | Анищик, В. М. Горушко, В. А. Пилипенко, В. А. Понарядов, В. В. Солодуха, В. А. |
| Тема: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
| Дата публикации: | 2018 |
| Издатель: | Минск : БГУ |
| Библиографическое описание источника: | Журнал Белорусского государственного университета. Физика = Journal of the Belarusian State University. Physics. - 2018. - № 2. - С. 81-85 |
| Аннотация: | Представлены результаты исследования влияния быстрой термической обработки исходных кремниевых пластин на процесс их пирогенного окисления. Показано, что данная обработка приводит к повышению качества двуокиси кремния, сформированной на их поверхности за счет уменьшения толщины нарушенного слоя, оказывающего существенное влияние на начальный этап окисления. |
| Аннотация (на другом языке): | The work represents the investigation results of influence of rapid thermal treatment of the initial silicon wafers on the process of their pyrogenic oxidation. It is shown that the given treatment results in the quality enhancement of silicon dioxide, formed on their surface owing to thickness reduction of the disrupted layer, substantially influencing the initial stage of the oxidation process. |
| URI документа: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/202690 |
| ISSN: | 2520-2243 |
| Лицензия: | info:eu-repo/semantics/openAccess |
| Располагается в коллекциях: | 2018, №2 |
Полный текст документа:
Нет файлов, ассоциированных с этим документом.
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.