Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/202690| Title: | Влияние быстрой термической обработки исходных кремниевых пластин на процесс их пирогенного окисления |
| Other Titles: | Influence of the rapid thermal treatment of the initial silicon wafers on the process of their pyrogenic oxidation / V. M. Anishchik, V. A. Harushka, U. A. Pilipenka, V. V. Ponariadov, V. A. Saladukha |
| Authors: | Анищик, В. М. Горушко, В. А. Пилипенко, В. А. Понарядов, В. В. Солодуха, В. А. |
| Keywords: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
| Issue Date: | 2018 |
| Publisher: | Минск : БГУ |
| Citation: | Журнал Белорусского государственного университета. Физика = Journal of the Belarusian State University. Physics. - 2018. - № 2. - С. 81-85 |
| Abstract: | Представлены результаты исследования влияния быстрой термической обработки исходных кремниевых пластин на процесс их пирогенного окисления. Показано, что данная обработка приводит к повышению качества двуокиси кремния, сформированной на их поверхности за счет уменьшения толщины нарушенного слоя, оказывающего существенное влияние на начальный этап окисления. |
| Abstract (in another language): | The work represents the investigation results of influence of rapid thermal treatment of the initial silicon wafers on the process of their pyrogenic oxidation. It is shown that the given treatment results in the quality enhancement of silicon dioxide, formed on their surface owing to thickness reduction of the disrupted layer, substantially influencing the initial stage of the oxidation process. |
| URI: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/202690 |
| ISSN: | 2520-2243 |
| Licence: | info:eu-repo/semantics/openAccess |
| Appears in Collections: | 2018, №2 |
Files in This Item:
There are no files associated with this item.
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.