Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/17023| Title: | Формирование водородо-индуцированиых дефектов и их применение в технологиях микро- и оптоэлектроники |
| Authors: | Комаров, Ф. Ф. Мильчанин, О. В. Миронов, А. М. |
| Keywords: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
| Issue Date: | Sep-2006 |
| Publisher: | БГУ |
| Citation: | Вестник Белорусского государственного университета. Сер. 1, Физика. Математика. Информатика. – 2006. - № 3. – С. 56-62. |
| Abstract: | A few important implementations of proton beam induced damage in crystals to produce unique structures for microelectronics and optoelectronics are presented. = Представлен ряд разработок, доведенных до технологического исполнения, позволяющих получать уникальные структуры с использованием протонных пучков: создание структур кремний-на-изоляторе, создание внутренних геттерирующих слоев в кремнии и формирование межприборной изоляции на полупроводниках А3В5. |
| URI: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/17023 |
| ISSN: | 0321-0367 |
| Licence: | info:eu-repo/semantics/openAccess |
| Appears in Collections: | 2006, №3 (сентябрь) |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.