Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/170223| Title: | Новый нанопористый материал на основе аморфного диоксида кремния |
| Authors: | Власукова, Л. А. Комаров, Ф. Ф. Ювченко, В. Н. Мильчанин, О. В. Дидык, А. Ю. Скуратов, В. А. Кислицын, С. Б. |
| Keywords: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
| Issue Date: | 2012 |
| Citation: | Известия РАН. Серия физическая. - 2012. - Том 76, № 5. - С. 653–658. |
| Abstract: | Исследованы процессы создания нанопористых слоев SiO2 на Si путем облучения термически оксидированных подложек кремния быстрыми ионами с последующей химической обработкой в растворах или парах фтористоводородной кислоты. Показано, что плотность, форму, диаметр и соотношение длина/диаметр вытравленных в диоксиде кремния каналов можно контролировать, изменяя режимы облучения быстрыми ионами или химической обработки структур SiO2/Si. Проведено сравнение параметров трекообразования, рассчитанных в рамках модели термического пика, с данными химического травления |
| URI: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/170223 |
| ISSN: | 0367-6765 |
| Appears in Collections: | Статьи сотрудников НИИ ПФП |
Files in This Item:
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| 653–658.PDF | 2,63 MB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.