Logo BSU

Please use this identifier to cite or link to this item: http://elib.bsu.by/handle/123456789/170223
Title: Новый нанопористый материал на основе аморфного диоксида кремния
Authors: Власукова, Л. А.
Комаров, Ф. Ф.
Ювченко, В. Н.
Мильчанин, О. В.
Дидык, А. Ю.
Скуратов, В. А.
Кислицын, С. Б.
Keywords: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Issue Date: 2012
Citation: Известия РАН. Серия физическая. - 2012. - Том 76, № 5. - С. 653–658.
Abstract: Исследованы процессы создания нанопористых слоев SiO2 на Si путем облучения термически оксидированных подложек кремния быстрыми ионами с последующей химической обработкой в растворах или парах фтористоводородной кислоты. Показано, что плотность, форму, диаметр и соотношение длина/диаметр вытравленных в диоксиде кремния каналов можно контролировать, изменяя режимы облучения быстрыми ионами или химической обработки структур SiO2/Si. Проведено сравнение параметров трекообразования, рассчитанных в рамках модели термического пика, с данными химического травления
URI: http://elib.bsu.by/handle/123456789/170223
ISSN: 0367-6765
Appears in Collections:Статьи сотрудников НИИ ПФП

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
653–658.PDF2,63 MBAdobe PDFView/Open


PlumX

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.