Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/10150| Заглавие документа: | Моделирование технологических процессов субмикронной электроники |
| Авторы: | Комаров, Ф. Ф. Комаров, А. Ф. Миронов, А. М. Заяц, Г. М. Солодуха, В. А. Макаревич, Ю. В. Мискевич, С. А. |
| Тема: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
| Дата публикации: | 2011 |
| Издатель: | БГУ |
| Библиографическое описание источника: | Международный конгресс по информатике: информационные системы и технологии: материалы международного научного конгресса 31 окт. – 3 нояб. 2011 г. : в 2 ч. Ч. 1. – Минск: БГУ, 2011. – C . 453-458. |
| Аннотация: | Разработан программный комплекс для моделирования процессов низкоэнергетической имплантации легирующих примесей в кремниевые структуры и постимплантационного быстрого термического отжига (БТО) этих структур. Проведен учет влияния на диффузию имплантированной примеси электрического поля, внутренних напряжений, связывания собственных междоузельных атомов кремния атомами углерода. Программное обеспечение интегрировано в среду программного комплекса ATHENA фирмы Silvaco Inc., что позволяет также проводить расчет электрофизических свойств субмикронных МОП-транзисторов. |
| Доп. сведения: | Секция 5. Компьютерные технологии в приборостроении |
| URI документа: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/10150 |
| ISBN: | 978-985-518-563-6 |
| Располагается в коллекциях: | 2011. Международный конгресс по информатике : информационные системы и технологии. Часть 1. |
Полный текст документа:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| pages from Конференция_1. 453-458pdf.pdf | 342,75 kB | Adobe PDF | Открыть |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.