Моделирование технологических процессов субмикронной электроники

Комаров, Ф. Ф.; Комаров, А. Ф.; Миронов, А. М.; Заяц, Г. М.; Солодуха, В. А.; Макаревич, Ю. В.; Мискевич, С. А.

Issue Date Author Title Subject

Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.bsu.by/handle/123456789/10150

Title:	Моделирование технологических процессов субмикронной электроники
Authors:	Комаров, Ф. Ф. Комаров, А. Ф. Миронов, А. М. Заяц, Г. М. Солодуха, В. А. Макаревич, Ю. В. Мискевич, С. А.
Keywords:	ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Issue Date:	2011
Publisher:	БГУ
Citation:	Международный конгресс по информатике: информационные системы и технологии: материалы международного научного конгресса 31 окт. – 3 нояб. 2011 г. : в 2 ч. Ч. 1. – Минск: БГУ, 2011. – C . 453-458.
Abstract:	Разработан программный комплекс для моделирования процессов низкоэнергетической имплантации легирующих примесей в кремниевые структуры и постимплантационного быстрого термического отжига (БТО) этих структур. Проведен учет влияния на диффузию имплантированной примеси электрического поля, внутренних напряжений, связывания собственных междоузельных атомов кремния атомами углерода. Программное обеспечение интегрировано в среду программного комплекса ATHENA фирмы Silvaco Inc., что позволяет также проводить расчет электрофизических свойств субмикронных МОП-транзисторов.
Description:	Секция 5. Компьютерные технологии в приборостроении
URI:	http://elib.bsu.by/handle/123456789/10150
ISBN:	978-985-518-563-6
Appears in Collections:	2011. Международный конгресс по информатике : информационные системы и технологии. Часть 1.

Files in This Item:

File	Description	Size	Format
pages from Конференция_1. 453-458pdf.pdf		342,75 kB	Adobe PDF	View/Open

Show full item record Google Scholar