Logo BSU

Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.bsu.by/handle/123456789/10150
Title: Моделирование технологических процессов субмикронной электроники
Authors: Комаров, Ф. Ф.
Комаров, А. Ф.
Миронов, А. М.
Заяц, Г. М.
Солодуха, В. А.
Макаревич, Ю. В.
Мискевич, С. А.
Keywords: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Issue Date: 2011
Publisher: БГУ
Citation: Международный конгресс по информатике: информационные системы и технологии: материалы международного научного конгресса 31 окт. – 3 нояб. 2011 г. : в 2 ч. Ч. 1. – Минск: БГУ, 2011. – C . 453-458.
Abstract: Разработан программный комплекс для моделирования процессов низкоэнергетической имплантации легирующих примесей в кремниевые структуры и постимплантационного быстрого термического отжига (БТО) этих структур. Проведен учет влияния на диффузию имплантированной примеси электрического поля, внутренних напряжений, связывания собственных междоузельных атомов кремния атомами углерода. Программное обеспечение интегрировано в среду программного комплекса ATHENA фирмы Silvaco Inc., что позволяет также проводить расчет электрофизических свойств субмикронных МОП-транзисторов.
Description: Секция 5. Компьютерные технологии в приборостроении
URI: http://elib.bsu.by/handle/123456789/10150
ISBN: 978-985-518-563-6
Appears in Collections:2011. Международный конгресс по информатике : информационные системы и технологии. Часть 1.

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
pages from Конференция_1. 453-458pdf.pdf342,75 kBAdobe PDFView/Open


PlumX

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.