Logo BSU

Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.bsu.by/handle/123456789/38168
Title: ВЛИЯНИЕ ТЕМПЕРАТУРЫ ОБЛУЧЕНИЯ (ТОБЛ = 320–580 К) БЫСТРЫМИ ЭЛЕКТРОНАМИ НА ЭФФЕКТИВНОСТЬ ФОРМИРОВАНИЯ РАДИАЦИОННЫХ ДЕФЕКТОВ В КРЕМНИИ
Authors: Медведева, И. Ф.
Мурин, Л. И.
Маркевич, В. П.
Коршунов, Ф. П.
Ластовский, С. Б.
Гусаков, В. Е.
Keywords: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Issue Date: 2012
Publisher: Издательский центр БГУ
Citation: Материалы и структуры современной электроники: сб. науч. тр. V Междунар. науч. конф., Минск, 10-11 окт. 2012 г. С.146-149
Series/Report no.: Вузовская наука, промышленность, международное сотрудничество;
URI: http://elib.bsu.by/handle/123456789/38168
ISBN: 978-985-553-079-5
Appears in Collections:2012. Материалы и структуры современной электроники

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Медведева, Мурин....pdf315,76 kBAdobe PDFView/Open


PlumX

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.