Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/329557
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorСтаськов, Н. И.
dc.contributor.authorПетлицкий, А. Н.
dc.contributor.authorСергейчик, А. А.
dc.contributor.authorСотская, Л. И.
dc.contributor.authorЧудаков, Е. А.
dc.contributor.authorЛаврентьев, А. К.
dc.date.accessioned2025-05-22T14:49:08Z-
dc.date.available2025-05-22T14:49:08Z-
dc.date.issued2025
dc.identifier.citationМатериалы и структуры современной электроники : материалы XI Междунар. науч. конф., Минск, 16–18 окт. 2024 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. Б. Оджаев (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2025. – С. 180-184.
dc.identifier.isbn978-985-881-739-8
dc.identifier.urihttps://elib.bsu.by/handle/123456789/329557-
dc.descriptionСвойства, диагностика и применение полупроводниковых материалов и структур на их основе
dc.description.abstractАналитически рассчитаны спектры показателей преломления и поглощения в области края полос собственного поглощения и двумя независимыми методами оценена ширина запрещенной зоны плоскопараллельной пластины КДБ-12 с ультратонкими поверхностными слоями. В этой спектральной области наблюдается отличие показателей преломления чистого кремния и кремния, легированного бором. Уменьшение величины запрещенной зоны кремния при легировании бором обусловлено расположением акцепторных уровней примеси в запрещенной зоне кремния около потолка валентной зоны. Уменьшение энергии Урбаха при легировании кремния бором может быть вызвано дефектами кристаллической решетки кремния при внедрении бора
dc.description.sponsorshipРабота выполнена в рамках Государственной программы научных исследований Республики Беларусь «1.15 Фотоника и электроника для инноваций».
dc.language.isoru
dc.publisherМинск : БГУ
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
dc.titleОптические характеристики легированных бором кремниевых пластин на краю полос собственного поглощения
dc.title.alternativeOptical characteristics of boron-doped silicon wafers at the edge of inner absorption bands / M. I. Staskov, A. N. Petlitsky, A. A. Sergeychik, L. I. Sotskaya, E. A. Chudakov, A. K. Lavrentyev
dc.typeconference paper
dc.description.alternativeThe spectra of refractive indices and absorption in the region of the edge of the intrinsic absorption bands were calculated analytically and the width of the forbidden zone of a plane-parallel plate KDB-12 with ultrathin surface layers was estimated by two independent methods. In this spectral region, a difference in the refractive indices of pure silicon and silicon doped with boron is observed. The decrease in the value of the forbidden zone of silicon when doped with boron is due to the location of the acceptor levels of the impurity in the forbidden zone of silicon near the top of the valence zone. The decrease in the Urbach energy when doping silicon with boron can be caused by defects in the crystal lattice of silicon when introducing boron
Располагается в коллекциях:2024. Материалы и структуры современной электроники

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
180-184.pdf352,56 kBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.