Logo BSU

Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.bsu.by/handle/123456789/329531
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorГревцов, Н. Л.
dc.contributor.authorЧубенко, Е. Б.
dc.contributor.authorБондаренко, В. П.
dc.contributor.authorГаврилин, И. М.
dc.contributor.authorДронов, А. А.
dc.contributor.authorГаврилов, С. А.
dc.contributor.authorГорошко, Д. Л.
dc.contributor.authorГорошко, О. А.
dc.contributor.authorРимский, Г. С.
dc.contributor.authorЯнушкевич, К. И.
dc.date.accessioned2025-05-22T14:49:03Z-
dc.date.available2025-05-22T14:49:03Z-
dc.date.issued2025
dc.identifier.citationМатериалы и структуры современной электроники : материалы XI Междунар. науч. конф., Минск, 16–18 окт. 2024 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. Б. Оджаев (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2025. – С. 61-66.
dc.identifier.isbn978-985-881-739-8
dc.identifier.urihttps://elib.bsu.by/handle/123456789/329531-
dc.descriptionСвойства, диагностика и применение полупроводниковых материалов и структур на их основе
dc.description.abstractПолучены термоэлектрические тонкие пленки на основе сплава кремний-германий путем электрохимического осаждения кобальта и германия в мезопористый кремний с последующим быстрым термическим отжигом. Полученные пленки исследованы методами сканирующей электронной микроскопии, энергодисперсионной рентгеновской спектроскопии и рентгеновской дифрактометрии. Показано, что введение в состав пленок кремний-германия кобальта приводит к повышению коэффициента Зеебека, достигающему –450 мкВ/К при 450 К, и фактора мощности, составляющему 1600–1700 мкВт/(м·К2) при 300 К, что обусловлено образованием кристаллической фазы дисилицида кобальта, влияющей на транспорт носителей заряда в полученных пленках
dc.description.sponsorshipДанное исследование было выполнено при поддержке гранта РНФ (№ 20-19-00720, https://rscf.ru/project/20-19-00720/).
dc.language.isoru
dc.publisherМинск : БГУ
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
dc.titleТермоэлектрические свойства содержащих кобальт тонких пленок кремний-германия
dc.title.alternativeTermoelectric properties of cobalt containing silicon germanium thin films / N. L. Grevtsov, E. B. Chubenko, V. P. Bondarenko, I. M. Gavrilin, A. A. Dronov, S. A. Gavrilov, D. L. Goroshko, O. A. Goroshko, G. S. Rymski, K. I. Yanushkevich
dc.typeconference paper
dc.description.alternativeThermoelectric thin films based on silicon-germanium alloy were obtained by electrochemical deposition of cobalt and germanium into porous silicon with subsequent rapid thermal processing. The films were studied by scanning electron microscopy, energy-dispersive X-ray spectroscopy and X-ray diffractometry. It was shown that the introduction of cobalt into the silicon-germanium films leads to an increase in the Seebeck coefficient up to –450 μV/K at 450 K and a power factor to 1600–1700 μW/(m·K2) at 300 K, due to the formation of a crystalline phase of cobalt disilicide, which affects the transport of charge carriers in the obtained films
Appears in Collections:2024. Материалы и структуры современной электроники

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
61-66.pdf409,22 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record Google Scholar



Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.