Дифференциальные характеристики распыления поверхности металлов газовыми кластерными ионами

Abstract

Газовые кластерные ионы являются инструментом, который находит применение в задачах обработки поверхностей твердотельных мишеней для нужд электроники, оптики, сенсорики и др., а также в различных аналитических методиках. Основным явлением, лежащим в основе этих практических применений, является распыление под действием кластерного облучения. В работе изучены угловые и энергетические распределения атомов, распылённых с однокомпонентных металлических поверхностей кластерными ионами различных инертных газов при различных значениях средней энергии, приходящейся на один атом кластера (E/n). Также изучен процесс передачи энергии кластера атомам мишени для различных масс атомов кластера и мишени. Выявлены различия в механизмах взаимодействия кластера с поверхностью в различных диапазонах E/n, обсуждается применимость модели тепловых пиков для описания энергетических распределений распылённых атомов