Logo BSU

Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.bsu.by/handle/123456789/304232
Title: Исследование свойств пленки на основе Mо на подложке Si для создания тонкопленочного ИК-излучателя
Other Titles: Investigation of the properties of Mo-based film on Si substrate for prepare of thin-film IR emitter / O.M. Mikhalkovich, S.M. Baraishuk, T.M. Tkachenko
Authors: Михалкович, О. М.
Барайшук, С. М.
Ткаченко, Т. М.
Keywords: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Issue Date: 2023
Publisher: Минск : БГУ
Citation: Взаимодействие излучений с твердым телом : материалы 15-й Междунар. конф., Минск, Беларусь, 26-29 сент. 2023 г. / Белорус, гос. ун-т ; редкол.: В. В. Углов (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2023. – С. 414-416.
Abstract: В работе представлены исследования композиционного состава, топографии поверхности и удельного сопротивления структур пленка на основе Мо/кремний изготовленных комбинацией различных методов (осаждение покрытий ассистированное собственными ионами (ОПАСИ) и магнетронного распыления) и режимов нанесения. Конструкции и состав полученных систем делают возможным их применение в качестве тонкопленочных ИК-излучателей на основе MoSi2 крайне важных, при создании оптических газоанализаторов, построенных на принципе бездисперсионной ИК спектроскопии. Установлено, что получаемая методом ОПАСИ Mo пленка содержит атомы кремния, углерода, кислорода и водорода. Показано, что получаемое покрытие достаточно гетерогенно, с достаточно низким удельным сопротивлением и при соответствующей толщине может быть использовано в качестве источника ИК излучения
Abstract (in another language): In this paper a composite structure, surface topography and resistivity of Mo film/silicon structures prepared by combination of various methods (self-ion-assisted deposition (SIAD) of coating and magnetron sputtering) and deposition modes are discussed. Rutherford backscattering of He+ ions and computer program RUMP were applied to investigate a composition of surface. Atomic Force Microscopy surface observations were used to investigate the topography of modified surfaces. Self-ion-assisted deposits on silicon were prepared using 5 kV ions irradiation during the deposition molybdenum neutral fraction generated from vacuum arc plasma. The deposition of the covering has occurred at the vacuum in the working chamber ~10 –2 Pa. The exposition time varied from 1 to 12 hours. The density of ionic current at the deposition of the covering has changed in the range of 3 to 5 µA/cm2. It is established, that coatings composition includes atoms of the molybdenum (average 7 at. %), atoms of silicon from the substrate (average 4.5 at. %), atoms of technological impurity hydrogen (5-10 at. %), carbon (50-55 at. %) and oxygen (25- 30 at. %). It has been determined that the penetration of metal atoms into the interior of the sample occurs as a result of radiation-stimulated diffusion, of silicon atoms due to interdiffusion. It is shown that the resulting coating is sufficiently heterogeneous, with a sufficiently low resistivity and, with an appropriate thickness, can be used as an IR emitter
Description: Секция 4. Наноматериалы: формирование и свойства при воздействии излучений = Section 4. Nanomaterials: formation and properties under the influence of radiation
URI: https://elib.bsu.by/handle/123456789/304232
ISSN: 2663-9939 (Print)
2706-9060 (Online)
Sponsorship: Работа выполнена при частичной финансовой поддержке Министерства образования Республики Беларусь № ГР 20211394 и № ГР 20211250.
Licence: info:eu-repo/semantics/openAccess
Appears in Collections:2023. Взаимодействие излучений с твердым телом

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
414-416.pdf477,09 kBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar



Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.