Logo BSU

Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.bsu.by/handle/123456789/302383
Title: Формирование слоев SiC на структурах поли-Si/Si3N4/SiO2/Si
Authors: Полонский, Н. В.
Лобанок, М. В.
Гайдук, П. И.
Keywords: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Issue Date: 2023
Citation: Прикладные проблемы оптики, информатики, радиофизики и физики конденсированного состояния : материалы VII Междунар. науч.-практ. конференции, посвященной 120-летию со дня рождения академика Антона Никифоровича Севченко, 18–19 мая 2023 г., Минск / НИУ «Ин-т приклад. физ. проблем им. А. Н. Севченко» БГУ ; [редкол.: Ю. И. Дудчик (гл. ред.), И. М. Цикман, И. Н. Кольчевская]. – Минск, 2023. – С. 366-368.
Abstract: Методом резерфордовского обратного рассеяния установлено, что вакуумная карбидизация структур поли-Si/Si3N4/SiO2/Si приводит к формированию слоёв SiC толщиной 20-45 нм. Методом инфракрасной спектрометрии обнаружена полоса пропускания при 799 см-1, что соответствует валентным колебаниям связи Si-C. Установлено, что слоевое сопротивление SiC после 10 – 20 мин карбидизации составляет 450 и 2200 Ом/□ соответственно
Description: Секция 4. Прикладные проблемы физики конденсированного состояния
URI: https://elib.bsu.by/handle/123456789/302383
Sponsorship: Исследования выполнены в рамках проекта 3.1.2 ГПНИ «Фотоника и электроника для инноваций» (№ ГР 20212702) и проекта БРФФИ Т22-030 (№ ГР 20221052).
Licence: info:eu-repo/semantics/openAccess
Number, date deposit: №007528082023, Деп. в БГУ 28.08.2023
Appears in Collections:2023. Прикладные проблемы оптики, информатики, радиофизики и физики конденсированного состояния

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
366-368.pdf452,12 kBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar



Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.