Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/302383
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorПолонский, Н. В.
dc.contributor.authorЛобанок, М. В.
dc.contributor.authorГайдук, П. И.
dc.date.accessioned2023-10-02T06:46:59Z-
dc.date.available2023-10-02T06:46:59Z-
dc.date.issued2023
dc.identifier.citationПрикладные проблемы оптики, информатики, радиофизики и физики конденсированного состояния : материалы VII Междунар. науч.-практ. конференции, посвященной 120-летию со дня рождения академика Антона Никифоровича Севченко, 18–19 мая 2023 г., Минск / НИУ «Ин-т приклад. физ. проблем им. А. Н. Севченко» БГУ ; [редкол.: Ю. И. Дудчик (гл. ред.), И. М. Цикман, И. Н. Кольчевская]. – Минск, 2023. – С. 366-368.
dc.identifier.urihttps://elib.bsu.by/handle/123456789/302383-
dc.descriptionСекция 4. Прикладные проблемы физики конденсированного состояния
dc.description.abstractМетодом резерфордовского обратного рассеяния установлено, что вакуумная карбидизация структур поли-Si/Si3N4/SiO2/Si приводит к формированию слоёв SiC толщиной 20-45 нм. Методом инфракрасной спектрометрии обнаружена полоса пропускания при 799 см-1, что соответствует валентным колебаниям связи Si-C. Установлено, что слоевое сопротивление SiC после 10 – 20 мин карбидизации составляет 450 и 2200 Ом/□ соответственно
dc.description.sponsorshipИсследования выполнены в рамках проекта 3.1.2 ГПНИ «Фотоника и электроника для инноваций» (№ ГР 20212702) и проекта БРФФИ Т22-030 (№ ГР 20221052).
dc.language.isoru
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
dc.titleФормирование слоев SiC на структурах поли-Si/Si3N4/SiO2/Si
dc.typeconference paper
dc.identifier.deposit№007528082023, Деп. в БГУ 28.08.2023
Располагается в коллекциях:2023. Прикладные проблемы оптики, информатики, радиофизики и физики конденсированного состояния

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
366-368.pdf452,12 kBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.