Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/292885| Заглавие документа: | Зависимость ИК-поглощения структуры Si/SiO2/Si от уровня легирования Si-слоев |
| Другое заглавие: | Dependence of the IR-absorption of the Si/SiO2/Si structure on the doping level of the silicon layers / A. I. Mukhammad, P. I. Gaiduk |
| Авторы: | Мухаммад, А. И. Гайдук, П. И. |
| Тема: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
| Дата публикации: | 2022 |
| Издатель: | Минск : БГУ |
| Библиографическое описание источника: | Материалы и структуры современной электроники : материалы X Междунар. науч. конф., Минск, 12–14 окт. 2022 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. Б. Оджаев (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2022. – С. 476-481. |
| Аннотация: | Методом конечных разностей во временной области получены спектры поглощения инфракрасного излучения для структур Si/SiO2/Si с поверхностным островковым Si-слоем различного типа и уровня легирования. Обнаружено, что при легировании островкового слоя от 3×10 19 см-3 до 8×10 19 см-3 ширина полосы с интенсивностью поглощения выше 70% в спектре поглощения структуры Si/SiO2/n+ -Si составила более 16 мкм. Показано, что структура с подложкой р-типа, легированной до 5×10 19 см-3 и островковым Si-слоем n-типа, легированным до 7×10 19 см-3 поглощает более 75% падающего на него излучения в диапазоне 4–20 мкм. Установлено, что использование в качестве островкового слоя как нелегированного кремния, так и материала с большим количеством носителей заряда (металл) резко уменьшает эффективность поглощения излучения структурой в исследованном диапазоне |
| Аннотация (на другом языке): | The absorption spectra of infrared radiation of Si/SiO2/Si structures with an insular surface layer are calculated using the finite difference time domain method. The absorption spectra were modeled depending on the doping level of the silicon island layer. It is established that the doping level of the silicon island layer affects the absorption value of structures. It is shown that a wide absorption band (more than 16 microns) with an intensity of more than 75% occurs at the doping level of the silicon island layer in the range of 3×10 19 cm-3 –8×10 19 cm-3. It is shown that a variant of the structure with a p-type substrate doped to 5×10 19 cm-3 and an island Si-layer of n-type doped to 7×10 19 cm-3 absorbs more than 75% in the range of 4–20 microns. It is found that the use an island layer of unalloyed silicon or a material with a large number of charge carriers (metal) can affect a decrease in the absorption intensity of the structure |
| Доп. сведения: | Нанотехнологии, наноструктуры, квантовые явления. Наноэлектроника. Приборы на квантовых эффектах |
| URI документа: | https://elib.bsu.by/handle/123456789/292885 |
| ISBN: | 978-985-881-440-3 |
| Финансовая поддержка: | Исследования выполнены в рамках проекта Т22-030 Белорусского республиканского фонда фундаментальных исследований (№ ГР 20221052) |
| Лицензия: | info:eu-repo/semantics/openAccess |
| Располагается в коллекциях: | 2022. Материалы и структуры современной электроники |
Полный текст документа:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| 476-481.pdf | 684,06 kB | Adobe PDF | Открыть |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.