Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/292868Полная запись метаданных
| Поле DC | Значение | Язык |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Зайков, В. А. | |
| dc.contributor.author | Константинов, С. В. | |
| dc.contributor.author | Комаров, Ф. Ф. | |
| dc.contributor.author | Романов, И. А. | |
| dc.contributor.author | Чижов, И. В. | |
| dc.date.accessioned | 2023-01-26T10:07:05Z | - |
| dc.date.available | 2023-01-26T10:07:05Z | - |
| dc.date.issued | 2022 | |
| dc.identifier.citation | Материалы и структуры современной электроники : материалы X Междунар. науч. конф., Минск, 12–14 окт. 2022 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. Б. Оджаев (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2022. – С. 397-402. | |
| dc.identifier.isbn | 978-985-881-440-3 | |
| dc.identifier.uri | https://elib.bsu.by/handle/123456789/292868 | - |
| dc.description | Нанотехнологии, наноструктуры, квантовые явления. Наноэлектроника. Приборы на квантовых эффектах | |
| dc.description.abstract | Методом реактивного магнетронного распыления получены тонкопленочные покрытия многокомпонентных нитридов и карбонитридов TiAlCuN и TiAlCuCN различного стехиометрического состава с добавками меди. С помощью сканирующей электронной микроскопии и энергодисперсионного рентгеновского анализа изучены влияние режимов осаждения на состав и структуру покрытий. Обнаружено, что во всех исследованных режимах осаждения покрытий добавки меди приводят к уменьшению среднего размера зерна по сравнению с тонкими пленками TiAlN и TiAlCN. Установлено, что добавки меди уменьшают удельное сопротивление тонкопленочных покрытий TiAlCuN и TiAlCuCN, причем этот эффект более заметен для покрытий нестехиометрического состава, обогащенных металлическими Ti и Al компонентами | |
| dc.language.iso | ru | |
| dc.publisher | Минск : БГУ | |
| dc.rights | info:eu-repo/semantics/openAccess | |
| dc.subject | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика | |
| dc.title | Влияние добавок меди на состав, структуру и электрофизические свойства тонкопленочных покрытий TiAlCuN и TiAlCuCN | |
| dc.title.alternative | Influence of copper additives on the composition, structure and electrical properties of the TiAlCuN and TiAlCuCN thin-film / V. A. Zaikov, S. V. Konstantinov, F. F. Komarov, I. A. Romanov, I. V. Chizhov | |
| dc.type | conference paper | |
| dc.description.alternative | Reactive magnetron sputtering was used to obtain thin-film coatings of multicomponent nitrides and carbonitrides TiAlCuN and TiAlCuСN of various stoichiometric compositions with copper additives. Using scanning electron microscopy and energy-dispersive X-ray analysis, the effect of deposition modes on the composition and structure of coatings was studied. It has been found that under various deposition conditions, copper additions lead to a decrease in the average grain size in comparison with thin films of TiAlN and TiAlСN. It has been determined that copper additions reduce the resistivity of TiAlCuN and TiAl-CuСN thin film coatings, and this effect is more noticeable for non-stoichiometric coatings enriched in metallic Ti and Al components | |
| Располагается в коллекциях: | 2022. Материалы и структуры современной электроники | |
Полный текст документа:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| 397-402.pdf | 1,59 MB | Adobe PDF | Открыть |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.