Logo BSU

Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.bsu.by/handle/123456789/292792
Title: Влияние концентрации кислорода при реактивном магнетронном распылении на элементный состав пленок оксида титана-алюминия
Other Titles: Effect of oxygen concentration at reactive magnetron sputtering on the elemental composition of titanium-aluminum oxide films / H. T. Doan, N. A. Kananovich
Authors: Доан, Х. Т.
Кананович, Н. А.
Keywords: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Issue Date: 2022
Publisher: Минск : БГУ
Citation: Материалы и структуры современной электроники : материалы X Междунар. науч. конф., Минск, 12–14 окт. 2022 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. Б. Оджаев (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2022. – С. 63-68.
Abstract: Проведены исследования влияния газовой среды в процессе реактивного магнетронного распыления Ti-Al составной мишени на элементный состав наносимых пленок оксида титана-алюминия. Установлено, что при низких концентрациях кислорода в Ar/O2 смеси газов в процессе нанесения (менее 15 %) состав пленок зависит от парциального давления кислорода, что приводит к изменению относительного содержания металлов в пленке. Для нанесения пленок оксида титана-алюминия стабильного состава предпочтительней использовать реактивный режим работы системы при концентрации кислорода более 15 %
Abstract (in another language): The influence of the working gas mixture in the process of reactive magnetron sputtering of a Ti-Al compound target on the elemental composition of titanium-aluminum oxide deposited films has been studied. It has been found that at low oxygen concentrations in the Ar/O2 gas mixture during deposition (less than 15 %), the composition of the films depends on the oxygen partial pressure, which leads to a change in the relative content of metals in the film. To deposit films of titanium-aluminum oxide with a stable composition, it is preferable to use the reactive mode of operation of the system at an oxygen concentration of more than 15 %
Description: Свойства, диагностика и применение полупроводниковых материалов и структур на их основе
URI: https://elib.bsu.by/handle/123456789/292792
ISBN: 978-985-881-440-3
Licence: info:eu-repo/semantics/openAccess
Appears in Collections:2022. Материалы и структуры современной электроники

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
63-68.pdf700,79 kBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar



Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.