Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/292792| Заглавие документа: | Влияние концентрации кислорода при реактивном магнетронном распылении на элементный состав пленок оксида титана-алюминия |
| Другое заглавие: | Effect of oxygen concentration at reactive magnetron sputtering on the elemental composition of titanium-aluminum oxide films / H. T. Doan, N. A. Kananovich |
| Авторы: | Доан, Х. Т. Кананович, Н. А. |
| Тема: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
| Дата публикации: | 2022 |
| Издатель: | Минск : БГУ |
| Библиографическое описание источника: | Материалы и структуры современной электроники : материалы X Междунар. науч. конф., Минск, 12–14 окт. 2022 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. Б. Оджаев (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2022. – С. 63-68. |
| Аннотация: | Проведены исследования влияния газовой среды в процессе реактивного магнетронного распыления Ti-Al составной мишени на элементный состав наносимых пленок оксида титана-алюминия. Установлено, что при низких концентрациях кислорода в Ar/O2 смеси газов в процессе нанесения (менее 15 %) состав пленок зависит от парциального давления кислорода, что приводит к изменению относительного содержания металлов в пленке. Для нанесения пленок оксида титана-алюминия стабильного состава предпочтительней использовать реактивный режим работы системы при концентрации кислорода более 15 % |
| Аннотация (на другом языке): | The influence of the working gas mixture in the process of reactive magnetron sputtering of a Ti-Al compound target on the elemental composition of titanium-aluminum oxide deposited films has been studied. It has been found that at low oxygen concentrations in the Ar/O2 gas mixture during deposition (less than 15 %), the composition of the films depends on the oxygen partial pressure, which leads to a change in the relative content of metals in the film. To deposit films of titanium-aluminum oxide with a stable composition, it is preferable to use the reactive mode of operation of the system at an oxygen concentration of more than 15 % |
| Доп. сведения: | Свойства, диагностика и применение полупроводниковых материалов и структур на их основе |
| URI документа: | https://elib.bsu.by/handle/123456789/292792 |
| ISBN: | 978-985-881-440-3 |
| Лицензия: | info:eu-repo/semantics/openAccess |
| Располагается в коллекциях: | 2022. Материалы и структуры современной электроники |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.