Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/28304
Заглавие документа: | ВЛИЯНИЕ ИОННОГО ЛЕГИРОВАНИЯ НА ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕCКИЕ СВОЙСТВА МОП СТРУКТУР С НАНОКРИСТАЛЛАМИ Ge |
Авторы: | Новиков, А. Г. Наливайко, О. Ю. |
Тема: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
Дата публикации: | 2011 |
Библиографическое описание источника: | Взаимодействие излучений с твердым телом = Interaction of Radiation with Solids: Материалы 9-й Междунар. конф., 20-22 сент. 2011 г. — Минск,2011. |
Аннотация: | Проведены исследования структур Si/SiO2 с нанокристаллами Ge, сформированных путем химического осаждения из газовой фазы тонких слоев SiGe сплавов, их легирования ионами бора и фосфора и последующего термического окисления. Легирование ионами бора и фосфора проводилось при энергиях 20 и 60 кэВ соответственно через предва- рительно нанесенный буферный слой фосфоросиликатного стекла в диапазоне флюенсов 2*1013 – 2*1015 см-2. Путем измерения вольт-фарадных характеристик изучено влияние предварительного легирования SiGe слоев на электрофи- зические свойства полученных МОП конденсаторов. |
URI документа: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/28304 |
Располагается в коллекциях: | 2011. Взаимодействие излучений с твердым телом |
Полный текст документа:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
Новиков АГ.pdf | 282,84 kB | Adobe PDF | Открыть |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.