Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/28304
Заглавие документа: ВЛИЯНИЕ ИОННОГО ЛЕГИРОВАНИЯ НА ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕCКИЕ СВОЙСТВА МОП СТРУКТУР С НАНОКРИСТАЛЛАМИ Ge
Авторы: Новиков, А. Г.
Наливайко, О. Ю.
Тема: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Дата публикации: 2011
Библиографическое описание источника: Взаимодействие излучений с твердым телом = Interaction of Radiation with Solids: Материалы 9-й Междунар. конф., 20-22 сент. 2011 г. — Минск,2011.
Аннотация: Проведены исследования структур Si/SiO2 с нанокристаллами Ge, сформированных путем химического осаждения из газовой фазы тонких слоев SiGe сплавов, их легирования ионами бора и фосфора и последующего термического окисления. Легирование ионами бора и фосфора проводилось при энергиях 20 и 60 кэВ соответственно через предва- рительно нанесенный буферный слой фосфоросиликатного стекла в диапазоне флюенсов 2*1013 – 2*1015 см-2. Путем измерения вольт-фарадных характеристик изучено влияние предварительного легирования SiGe слоев на электрофи- зические свойства полученных МОП конденсаторов.
URI документа: http://elib.bsu.by/handle/123456789/28304
Располагается в коллекциях:2011. Взаимодействие излучений с твердым телом

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
Новиков АГ.pdf282,84 kBAdobe PDFОткрыть
Показать полное описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.