Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/257284
Полная запись метаданных
Поле DC | Значение | Язык |
---|---|---|
dc.contributor.author | Тявловский, А. К. | |
dc.contributor.author | Жарин, А. Л. | |
dc.contributor.author | Тявловский, К. Л. | |
dc.contributor.author | Пантелеев, К. В. | |
dc.contributor.author | Воробей, Р. И. | |
dc.contributor.author | Свистун, А. И. | |
dc.contributor.author | Пилипенко, В. А. | |
dc.contributor.author | Петлицкий, А. Н. | |
dc.date.accessioned | 2021-03-24T12:26:12Z | - |
dc.date.available | 2021-03-24T12:26:12Z | - |
dc.date.issued | 2020 | |
dc.identifier.citation | Материалы и структуры современной электроники : материалы IX Междунар. науч. конф., Минск, 14–16 окт. 2020 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. Б. Оджаев (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2020. – С. 125-129. | |
dc.identifier.isbn | 978-985-881-073-3 | |
dc.identifier.uri | https://elib.bsu.by/handle/123456789/257284 | - |
dc.description | Свойства, диагностика и применение полупроводниковых материалов и структур на их основе | |
dc.description.abstract | Для определения и картирования примеси железа в кремнии p-типа разработана методика контроля, основанная на использовании методов сканирующей зондовой электрометрии и дополнительных неразрушающих воздействий, таких как освещение поверхности и нагрев полупроводниковой пластины. Приведено краткое описание реализующей методику измерительной установки, показаны примеры получаемых с её помощью результатов. Выполняемые измерения носят полностью бесконтактный и неразрушающий характер, что обеспечивает возможность последующего исследования пластин другими методами либо их возвращения в технологическую линию | |
dc.language.iso | ru | |
dc.publisher | Минск : БГУ | |
dc.subject | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика | |
dc.title | Бесконтактное картирование примеси железа в кремнии зондовым зарядочувствительным методом | |
dc.title.alternative | Contactless mapping of iron-in-silicon distribution using a charge-sensitive probe technique / A. K. Tyavlovsky, A. L. Zharin, K. L. Tyavlovsky, K. V. Pantsialeyeu, R. I. Vorobey, A. I. Svistun, V. A. Pilipenko, A. N. Petlitsky | |
dc.type | conference paper | |
dc.description.alternative | To determine and map iron contamination in p-type silicon, a testing technique has been developed based on the use of scanning probe electrometry and additional non-destructive factors, such as surface illumination and low heating of a semiconductor wafer. A brief description of the measuring setup that implements the technique is given, also shown examples of results obtained on real semiconductor wafers. Due to completely contactless and non-destructive mode of operation the investigated wafers could be subsequently studied with other methods or returned into production line | |
Располагается в коллекциях: | 2020. Материалы и структуры современной электроники |
Полный текст документа:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
125-129.pdf | 2,06 MB | Adobe PDF | Открыть |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.