Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/246887
Заглавие документа: Накопление и релаксация заряда в имплантированных ионами диэлектриках
Авторы: Данилькевич, М. И.
Тема: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Дата публикации: 1995
Издатель: Минск : Універсітэцкае
Библиографическое описание источника: Вестник Белорусского государственного университета. Сер. 1, Физика. Математика. Механика. – 1995. – № 2. – С. 30-33.
Аннотация: The article sets forth the results of dose and time dependence of a charge accumulated as a result of implantations of boric ions into polytetrafluorethylene and polyethylentereftalat film and massive samples of polymethylmethacrylate and barium titanate
URI документа: https://elib.bsu.by/handle/123456789/246887
ISSN: 0321-0367
Финансовая поддержка: Автор выражает признательность Фонду фундаментальных исследо­ваний Республики Беларусь за финансовую поддержку работы.
Лицензия: info:eu-repo/semantics/openAccess
Располагается в коллекциях:1995, №2 (май)

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
30-33.pdf171,51 kBAdobe PDFОткрыть
Показать полное описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.