Накопление и релаксация заряда в имплантированных ионами диэлектриках

Issue Date Author Title Subject

Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.bsu.by/handle/123456789/246887

Full metadata record

DC Field	Value	Language
dc.contributor.author	Данилькевич, М. И.	-
dc.date.accessioned	2020-07-29T11:55:36Z	-
dc.date.available	2020-07-29T11:55:36Z	-
dc.date.issued	1995	-
dc.identifier.citation	Вестник Белорусского государственного университета. Сер. 1, Физика. Математика. Механика. – 1995. – № 2. – С. 30-33.	ru
dc.identifier.issn	0321-0367	-
dc.identifier.uri	https://elib.bsu.by/handle/123456789/246887	-
dc.description.abstract	The article sets forth the results of dose and time dependence of a charge accumulated as a result of implantations of boric ions into polytetrafluorethylene and polyethylentereftalat film and massive samples of polymethylmethacrylate and barium titanate	ru
dc.description.sponsorship	Автор выражает признательность Фонду фундаментальных исследований Республики Беларусь за финансовую поддержку работы.	ru
dc.language.iso	ru	ru
dc.publisher	Минск : Універсітэцкае	ru
dc.rights	info:eu-repo/semantics/openAccess	en
dc.subject	ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика	ru
dc.title	Накопление и релаксация заряда в имплантированных ионами диэлектриках	ru
dc.type	article	ru
dc.rights.license	CC BY 4.0	ru
Appears in Collections:	1995, №2 (май)

Files in This Item:

File	Description	Size	Format
30-33.pdf		171,51 kB	Adobe PDF	View/Open