Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/246358
Заглавие документа: Влияние уровня легирования на насыщение тока в n-канальном МОП-ПТ
Авторы: Андреев, А. Д.
Бельский, А. М.
Валиев, А. А.
Тема: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Дата публикации: 1996
Издатель: Минск : Універсітэцкае
Библиографическое описание источника: Вестник Белорусского государственного университета. Сер. 1, Физика. Математика. Информатика. – 1996. – № 1. – С. 26-29.
Аннотация: Saturation currents in n-channal MOS FET were measured. It is shown that the saturation drain-sourse voltage decreases with increasing of dopant level. This voltage is smoller than the effective gate voltage. The explanation of the current saturation can be based on drift velocity saturation
URI документа: https://elib.bsu.by/handle/123456789/246358
ISSN: 0321-0367
Лицензия: info:eu-repo/semantics/openAccess
Располагается в коллекциях:1996, №1 (январь)

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
26-29.pdf190,23 kBAdobe PDFОткрыть
Показать полное описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.