Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/246357| Заглавие документа: | Термическая стабильность границы раздела металл/а-C в условиях вакуумного отжига |
| Авторы: | Новиков, А. П. Шилова, Е. А. Буйко, Л. Д. Зайков, В. А. |
| Тема: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
| Дата публикации: | 1996 |
| Издатель: | Минск : Універсітэцкае |
| Библиографическое описание источника: | Вестник Белорусского государственного университета. Сер. 1, Физика. Математика. Информатика. – 1996. – № 1. – С. 24-26. |
| Аннотация: | Thermal stability at the interface of vanadium/amorphous carbon (V/a-C) and tantalum/amorphous carbon (Ta/a-C) systems have been investigated by the methods of ТЕМ, RBS, AES, and Raman spectroscopy. Thermal annealing of V/a-C, Ta/a-C thin-film structures has been carried out in a vacuum furnace at temperatures ranged from 100 to 1000 C. The conducted investigations have revealed that 400 C and 700 C are the threshold temperatures at which diffusion of carbon atoms to vanadium and tantalum films, respectively, begins to proceed and inclusions of carbide phases are formed. Regularities of structural changes and reactions at the metal/a-C interface are discussed for a group of refractory metals |
| URI документа: | https://elib.bsu.by/handle/123456789/246357 |
| ISSN: | 0321-0367 |
| Лицензия: | info:eu-repo/semantics/openAccess |
| Располагается в коллекциях: | 1996, №1 (январь) |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.