Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/223466
Title: | Влияние электронного облучения при 300 / 800 К на параметры кремниевых p-n-структур |
Authors: | Коршунов, Ф. П. Богатырев, Ю. В. Ластовский, С. Б. Маркевич, В. П. Мурин, Л. И. Шпаковский, С. В. |
Keywords: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
Issue Date: | 2008 |
Publisher: | Минск : БГУ |
Citation: | Материалы и структуры современной электроники: сб. науч. тр. III Междунар. науч. конф., Минск, 25-26 сент. 2008 г. / редкол. : В. Б. Оджаев (отв. ред.) [и др.]. - Минск : БГУ, 2008. - С. 171-175 |
Abstract: | В облученных кристаллах кремния, подвергнутых высокотемпературным обработкам либо воздействию проникающих излучений при повышенных температурах, имеет место формирование сложных примесно-дефектных комплексов (наноразмерных кластеров), обладающих высокой термостабильностью. Такие дефекты могут оказывать существенное влияние на электрические и оптические свойства материала, в том числе служить эффективными центрами рекомбинации неосновных носителей заряда (ННЗ) в кремниевых быстродействующих приборах. Цель данной работы - изучить влияние радиационных дефектов, вводимых электронным облучением при 300/800 К, на параметры кремниевых диодных р-n-структур. |
URI: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/223466 |
ISBN: | 978-985-518-091-4 |
Appears in Collections: | 2008. Материалы и структуры современной электроники |
Files in This Item:
File | Description | Size | Format | |
---|---|---|---|---|
171-175.pdf | 830,66 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.