Быстрые термообработки в технологии СБИС / В. А. Пилипенко

Abstract

В монографии рассмотрены физические процессы, вызывающие нагрев кремниевых пластин в результате их облучения импульсами когерентного и некогерентного света. Приведены расчеты температурных полей и термических напряжений, возникающих в кремниевых пластинах при такой обработке, их влияние на параметры исходных кремниевых пластин и диэлектрических покрытий, а также даны характеристики основных видов оборудования, применяемого для БТО. Представлены результаты применения БТО в технологии СБИС, а именно для геттерирования быстродиффундирующих примесей, очистки поверхности, формирования субмикронных эпитаксиальных слоев, отжига ионнолегированных слоев в моно- и поликристаллическом кремнии, планаризации поверхности, формирования силицидов, омических контактов. Кроме того, большое внимание уделяется моделированию и изучению параметров биполярных ИМС, сформированных с применением БТО. Предназначена для научных и инженерно-технических работников, занимающихся разработкой технологии создания СБИС с субмикронными размерами, а также преподавателей, студентов и аспирантов радиоэлектронного профиля.